연속 흐름 초음파 반응기 (CFUR)는 초음파의 캐비테이션 효과를 연속 흐름 화학과 통합하여 나노 물질 합성, 분산 및 표면 변형의 효율 및 제어 성을 크게 향상시킨다. 전통적인 배치 처리와 비교하여 작동 모드, 반응 결과 및 매개 변수 조절에서 주목할만한 장점이 있습니다.
- 초음파 전력은 50-3000 w입니다
- 빈도 : 20 kHz
- 온도 : -40 ~ 200도 (외부 순환 욕조)
- 압력 : 0. 1-10 막대 (백 압력 밸브에 의해 제어됨)
나노 솔루션을 처리하기 위해 연속 초음파 반응기 사용의 장점
나노 입자 크기의 정확한 제어 (주요 매개 변수 : 초음파 전력, 주파수, 시간)
- 초음파 전력 (50-2000 w) :
저전력 (50-300 w) : 과도한 조각화를 피하는 부드러운 분산 (예 : 그래 핀 각질 제거)에 적합합니다.
고전력 (500-2000 w) : 입자 크기 (미크론 크기의 sio₂를 분쇄하는 등 50-100 nm)를 효과적으로 줄일 수 있습니다.
- 주파수 선택 (20 kHz - 1 MHz) :
저주파 (20-50 kHz) : 캐비테이션 기포는 비교적 크며, 이는 큰 입자의 단편화에 적합합니다 (예 : 탄소 나노 튜브 번들의 해리).
고주파 (400 kHz - 1 MHz) : 미세한 나노 에멀젼 (예 : 리포좀 제조)에 적합한 작은 캐비테이션 기포를 생성합니다.
- 처리 시간 (1-60 분) :
짧은 기간 (1-10 분)은 오버 그라인딩을 방지 할 수 있지만 장기간 (30-60 분)는 분산 안정성을 향상시킬 수 있습니다.
산업 사례 :
나노 세라믹 슬러리 : 20kHz 및 10kW에서의 연속 초음파 처리가 채택되며, 생산 능력은 200 L/h 및 입자 균일 성 (D90<1 μm).
나노 살충제 현탁액 : 초음파 분산은 활성 성분의 입자 크기를 5 μm에서 200 nm로 감소시키고 생체 이용률을 30%증가시킵니다.
| 모델 | gk -10 l | gk -20 l | gkf -50 l | gk -100 l | gk -200 l |
| 용량 | 10L | 20L | 50L | 100L | 200L |
| 재키 볼륨 | ≈2L | ≈5L | ≈15L | ≈20L | ≈40L |
장비 세부 사항
